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製品の詳細
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機の設備紹介
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機は主に超微細加工のハイエンド市場に応用され、薬品、化粧品、ビデオ及びその他の高分子材料の包装瓶の表面は標識を打ち、効果は非常に細かく、標識洗浄はしっかりしており、インクジェットコードよりも優れ、汚染がない、フレキシブルpcb板のマーキング、スクライブ、シリコンウエハの微孔、盲孔加工、LCD液晶ガラスの二次元コードマーキング、ガラス器具の表面パンチング、金属表面めっきマーキング、プラスチックボタン、電子部品、贈り物、通信器材、3 W紫外レーザーレーザーレーザーレーザーレーザー彫刻機設備は355 nmの紫外レーザーを用いて開発された。同機は三次空洞内周波数逓倍技術を用いて赤外レーザーと比較し、355 nm紫外光焦点のスポットは非常に小さく、マーキングの効果は短波長レーザーを通じて物質の分子鎖を直接切断し、材料の機械変形を大幅に低減し、熱変形(冷光に属する)を受け、主に超微細マーキング、彫刻に用い、特に食品、医薬包装材料のマーキング、微小孔、ガラス材料の高速分割及びシリコンウエハの複雑なパターン切断などの応用、3 W紫外レーザラジウム彫刻機は、高出力マルチモードレーザダイオードによりポンプ発生レーザ光を再周波数逓倍後に発生させた紫外レーザ光である、コンピュータ制御高速走査ミラーの偏向によりレーザ光の光路を変化させてレーザマーキングを実現する.
3 W紫外ラジウム彫刻機設備の特徴
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機の設備構造分析
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機パラメータ表
へいきんしゅつりょく | 2W | 3W | 5W | 8W | 10W |
レーザ波長 |
355nm |
||||
パルス幅/Q周波数 | <20ns@50K | ||||
ビーム品質 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 | M2<1.2 |
ひょうめんばん | 110×110 mmオプション(70 x 70 mm 150 x 150 mm 200 x 200 mm)ダイナミックフォーカス振幅:300 mm*300 mm | ||||
くりかえしせいど | <20μ | ||||
彫刻線速度 | ≤7000mm/s | ||||
れいきゃくほうしき | ふうれい | すいれい | すいれい | すいれい | すいれい |
最小文字高さ | 0.2mm | 0.2mm | |||
レーザタイプ | 355紫外パルス固体レーザ | ||||
全体寸法(L*W*H) | 800 mm×680 mm×1200 mm(場合によります) | ||||
電源装置 | AC 220V 50KHz | ||||
アップグレード可能 | 電動昇降手動2次元テーブル電動2次元テーブル回転治具赤色光合焦 |
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機のソフトウェア機能紹介
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機の使用上の注意事項
2.使用環境が比較的劣悪な場合、定期的に集束レンズを無塵布で拭くには、高濃度アルコールで拭く必要があり、他の場所のレンズは拭く必要はありません。
3.常に位置を移動しないで、3 W紫外レーザーレーザーレーザーレーザーレーザーレーザーレーザー彫刻機の内部は光学部品で、移動位置は内部部品の緩みをもたらし、機械が正常に使用できないことを招く
4.専門外の人はシャーシを開けてはいけません。シャーシを開ける必要があっても電源を切ってから、総電源のプラグを外してください。
5.冷水機の冷却水を定期的に交換する。
6.設備の作業時、目に永久的な傷害を与えないようにフォーカスミラーの底から上を見ることを厳禁する。
7.長時間の接触で皮膚が脱皮する現象を起こさないように、装置の動作時にレーザビームに手を触れないようにする。
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機のアフターサービス
3 W紫外レーザーラジウム彫刻機のアフターサービスとサービス:宅配、技術エンジニアの訪問インストール調整と訓練、終身技術サポート、終身ソフトウェアの無料アップグレード、アフター2時間応答、24時間以内に現場に駆けつけて処理、アフター電話:400-829-6628
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